Applied^® Sigmameltec^® MRC Mask Clean Series

193i 和 EUV 微影所用光罩採用敏感光罩材料和環境，因此促成這些光罩採用的清潔方式。光罩清潔製程已經從腐蝕性化學處理方法發展到更溫和的配方與高頻超聲波相結合的技術，以去除更小的微粒並實現更光潔的光罩表面。

Sigmameltec MRC 系統為光罩製造商提供了可以滿足他們需求的整套設備，包括一個電漿反應室，用以輕柔但有效地去除光阻和其他殘留有機物。裝配有濕製程機器臂的兩個清潔室提供分離的化學清潔和關鍵性最終清潔步驟。可用的化學品包括臭氧水，CO2 水，與 TMAH 結合的水解水，硫酸過氧化物混合物和 SC-1。