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193i 및 EUV 리소그래피에서 사용되는 포토마스크 세정 방법은 민감한 마스크 재료 및 마스크 사용 환경에 의해 결정됩니다. 마스크 세정 공정은 과격한 화학 약품 처리에서 보다 미세한 파티클을 제거하고 청결한 마스크 표면을 얻기 위해 고주파 메가소닉이 결합된 순한 세정 조성물로 발전했습니다.
Sigmameltec’s MRC 시스템은 조심스럽지만 효과적으로 포토레지스트와 잔류 유기물을 제거하는 플라즈마 챔버 등 마스크 제작업체의 요구사항에 맞게 조정 가능한 툴셋을 제공합니다. 습식 공정 로봇을 사용하는 2개의 세정 챔버가 화학적 세정 단계와 중요한 최종 세정 단계 사이를 분리해 줍니다. 사용 가능한 화학 물질에는 이온수, CO2 용액, TMAH 전해수, 황산 과산화수소 혼합액(SPM), SC-1 등이 있습니다.
주요 특징 및 장점