포토마스크

포토마스크에는 집적회로의 패턴이 담겨 있습니다. 트랜지스터가 점점 더 작아짐에 따라, 실리콘 웨이퍼에 패턴을 정확하게 전사하기 위한 포토마스크 역시 더욱 복잡해지고 있습니다. 이에 따라 포토마스크 제작 공정도 한층 고도화되고 있으며, 포토마스크의 미세한 결함조차 실리콘 소자의 성능에 영향을 미칠 수 있습니다. 특히 매출 기여도가 큰 고수익 칩의 경우, 포토마스크 패턴이 정확하고 결함이 없는지 검증하는 과정이 무엇보다 중요합니다.

 포토마스크는 일반적으로 6인치(약 152mm) 정사각형 크기의 퓨즈드 실리카(석영) 플레이트로, 불투명/투명/위상 반전 영역으로 이루어진 패턴이 새겨져 있습니다. 이 패턴은 리소그래피 공정에서 웨이퍼에 투영돼 집적회로 한 층의 레이아웃을 결정합니다. 이후 여러 패터닝 단계에서 다수의 연속적인 패턴이 웨이퍼상의 재료 증착 또는 제거 과정을 안내합니다 (패터닝에 대해 자세히 알아보려면 여기를 클릭하세요).

포토마스크는 어플라이드에서 비중이 확대되고 있는 분야입니다. 모바일, 자동차, 사물인터넷 애플리케이션의 대량 생산을 위한 포토마스크의 수요 증가에 대응하기 위해, 어플라이드의 시스템은 포토마스크 제조 공정의 중요한 부분을 해결합니다.