| Endura® CIRRUS™ HT Co PVD | PVD（物理气相沉积） | 互连线, 存储 | Endura® |
| Aera4™ 掩膜检测 | 光掩膜, 测量与检测 | 图形化 | Aera™ |
| Aeris™-G 等离子减降系统 | | | |
| Aeris™-Si | | | |
| Applied MDLx™ Ginestra™ Simulation Software | | 存储, 晶体管 | |
| Applied Producer® XP Precision® Draco™ CVD | PVD（物理气相沉积） | | |
| Applied® Sigmameltec® CTS Mask Coat Series | 光掩膜 | 图形化 | |
| Applied® Sigmameltec® MRC Mask Clean Series | 光掩膜 | 图形化 | |
| Applied® Sigmameltec® SFB Mask Bake Series | 光掩膜 | 图形化 | |
| Applied® Sigmameltec® SFD Mask Develop Series | 光掩膜 | 图形化 | |
| AXCELA™ PVD | PVD（物理气相沉积） | | |
| Centris® Sym3® Y 刻蚀系统 | 刻蚀 | 互连线, 图形化 | Centris™ |
| Centris® Sym3™ Etch | 刻蚀 | 互连线, 图形化 | Centris™ |
| Centura® DPN HD Gate Stack | 快速热处理（RTP） | 存储 | Centura® |
| Centura® EPI 200mm | 功率, 外延生长, 微机电系统（MEMS）, 模拟 | | Centura® |
| Centura® Etch 200mm | 刻蚀, 功率, 化合物半导体, 微机电系统（MEMS）, 模拟 | | Centura® |
| Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW | ALD, CVD（化学气相沉积） | 互连线 | Centura® |
| Centura® RP Epi | 外延生长 | 晶体管 | Centura® |
| Centura® Silvia™ Etch | 刻蚀 | 晶圆级封装 | Centura® |
| Centura® Tetra™ EUV 先进光掩模刻蚀系统 | 光掩膜, 刻蚀 | 图形化 | Centura® |
| Centura® Tetra™ Z 光掩膜刻蚀系统 | 光掩膜, 刻蚀 | 图形化 | Centura® |
| Centura® Ultima HDP-CVD® | CVD（化学气相沉积） | | Centura® |
| Charger™ UBM PVD | PVD（物理气相沉积） | 晶圆级封装 | Charger™ |
| Endura® ALPS® PVD (ALPS Co & Ni) | PVD（物理气相沉积） | 晶体管 | Endura® |
| Endura® Amber™ PVD | PVD（物理气相沉积） | 互连线 | Endura® |
| Endura® Avenir™ RF PVD | PVD（物理气相沉积） | 晶体管 | Endura® |
| Endura® Cirrus™ HTX PVD | PVD（物理气相沉积） | 互连线, 图形化 | Endura® |
| Endura® CuBS RFX PVD | PVD（物理气相沉积） | 互连线 | Endura® |
| Endura® iLB™ PVD/ALD | PVD（物理气相沉积） | 互连线, 存储 | Endura® |
| Endura® PVD 200mm | PVD（物理气相沉积）, 功率, 化合物半导体, 微机电系统（MEMS）, 模拟 | | Endura® |
| Endura® Ventura™ PVD | PVD（物理气相沉积） | | Endura® |
| Endura® Versa™ XLR2 W PVD | PVD（物理气相沉积） | 互连线, 存储 | Endura® |
| Endura® Volta™ W CVD | CVD（化学气相沉积） | 互连线 | Endura® |
| Endura® Volta™ Cobalt CVD | CVD（化学气相沉积） | | Endura® |
| Endura® Volta™ 选择性钨化学气相沉积 | CVD（化学气相沉积） | | Endura® |
| Endura® 底层凸块金属化 PVD | PVD（物理气相沉积） | 晶圆级封装 | Endura® |
| Enlight® 光学检测 | 测量与检测 | 图形化 | |
| iSystem™ Controller | | | |
| Mirra® MESA CMP 200mm | CMP, 功率, 微机电系统（MEMS）, 模拟 | | |
| Nokota™ ECD | ECD | 晶圆级封装 | Nokota™ |
| Olympia™ ALD | ALD | 晶体管 | Olympia™ |
| PIKA™ PVD | PVD（物理气相沉积） | | |
| Producer® APF™ PECVD | CVD（化学气相沉积） | 图形化 | Producer® |
| Producer® Avila™ PECVD | CVD（化学气相沉积） | 晶圆级封装 | Producer® |
| Producer® Black Diamond® PECVD | CVD（化学气相沉积） | 互连线 | Producer® |
| Producer® BLOk™ PECVD | CVD（化学气相沉积） | 互连线 | Producer® |
| Producer® Celera™ PECVD | CVD（化学气相沉积） | 晶体管 | Producer® |
| Producer® CVD 200mm | CVD（化学气相沉积）, 功率, 化合物半导体, 微机电系统（MEMS）, 模拟 | | Producer® |
| Producer® DARC® PECVD | CVD（化学气相沉积） | 图形化 | Producer® |
| Producer® Etch | 刻蚀 | 晶圆级封装 | Producer® |
