半導體 (Semiconductor)
光罩包含著積體電路的圖案。隨著電晶體越來越小,為了將圖案精確地轉印到矽晶圓上,光罩隨之更為複雜。是以,製作光罩的製程已變得更先進—即使是光罩上細微的缺陷都會影響矽元件的性能。驗證光罩圖案的準確性及零缺陷率至關重要,尤其對於高收益的晶片來說更是如此。
光罩是一片熔融矽石(石英)板,通常為6平方英寸(約 152平方毫米),其上覆蓋著在微影製程中由不透明、透明和相偏移區域所組成的圖案,被投影到晶圓上,以定義單層積體電路的佈局。在隨後的圖案化步驟中,無數連續的圖案設計引導了在晶圓上沉積或去除材料(有關於圖案化更多內容請按這裡)。
光罩是應材正在拓展的市場;為了因應行動、車用及物聯網應用大量生產,對於光罩的需求逐漸提高,其系統可滿足光罩製造流程中很大一部分。