高品質光阻鍍膜是達到世界一流光罩 CD 均勻度的第一步。在奈米尺度上,許多細微因素變得非常重要,其中包括反應室空氣的純度、溫度和濕度,光罩表面的預處理、光阻分配和旋轉塗佈特性,以及塗抹後烘烤 (post apply bake) 輪廓的控制。
Sigmameltec CTS 系統提供可調控的環境,可協助生產具備可重複特性和超低缺陷層級的高品質光阻塗層。光罩基板的預處理可確保表面光潔並具有良好的附著力,連同嚴格控制的光阻分配和旋轉程式,這些確保了 1 奈米 (3s) 尺度的塗膜均勻度。鍍膜反應室配有三個光阻類型的分配臂,並可以選擇更多分配臂。自動化溶劑沖洗可確保鍍膜環境一致的清潔度。