Applied Sigmameltec CTS Mask Coat Series

세계적 수준의 포토마스크 CD 균일도를 얻으려면 포토레지스트 코팅 품질부터 관리해야 합니다. 나노미터급에서는 챔버 내부 공기의 순도, 온도, 습도, 마스크 표면 전처리, 포토레지스트 디스펜스, 스핀 특성, PAB(도포후 베이크) 윤곽 제어 등 여러 가지 미세한 요인이 중요해집니다.

Sigmameltec의 CTS 시스템은 재현성이 우수하고 결함이 극히 적은 고품질의 포토레지스트층 형성을 뒷받침하는 제어된 환경을 제공합니다. 블랭크 마스크 전처리로 접착력이 뛰어난 청결한 표면을 확보할 수 있고, 엄격하게 조절된 포토레지스트 디스펜스와 스핀 프로그램으로 1nm(3s) 수준의 코팅 균일도를 얻을 수 있습니다. 코팅 챔버는 3가지 포토레지스트용 디스펜스 암이 포함되어 있으며 옵션으로 암을 추가할 수 있습니다. 자동 용제 세척으로 항상 청결한 코팅 환경이 보장됩니다.

주요 특징 및 장점

• 균일하고 재현성 높은 코팅에 최적화된 스핀 챔버 디자인
• 최신 포토레지스트 물질을 균일하게 디스펜스하기 위한 다중 포토레지스트 암
• 포토레지스트 특성 안정화를 위해 엄격한 온도 조절이 가능한 PAB 및 쿨링 플레이트
• 코팅전 CO2 용액 세척으로 파티클을 제거할 수 있는 제트 메가소닉 챔버
• 코팅전 표면 상태 향상 및 포토레지스트 습윤성(wettability) 개선을 위한 172nm 자외선 처리
• 정밀한 포토레지스트 트리밍과 예리한 윤곽을 위한 에지 비드(edge bead) 제거 장치
• 고품질 코팅용 아민 여과기를 갖춘 Class1 수준의 챔버
• 파티클 없는 청결한 코팅 환경 유지를 위한 자동 용제 세적
• 포토레지스트 접착력 개선을 위한 HDMS 프라임 챔버 옵션
• 전자빔 쓰기 중 전자의 적층을 방지하기 위한 선택적 전도성 층 코팅