Aera 6 光罩檢測

應材的 Aera^™ 6 光罩檢測系統是第六代基於 193 奈米的檢測工具，獨特之處在於結合了真實的空間成像與尖端的高解析度成像技術。

Aera 6 配備了全新的微影級鏡頭和雙感光耦合元件(CCD)系統，在標準高解析度應用和空間檢測中展現增強的信噪比，並提高了處理量。這些功能使其成為記憶體和邏輯最先進節點的首選工具，包括那些具有積極光學鄰近修正功能的技術，例如逆微影技術和極紫外光(EUV)光罩檢測。該系統的光罩檢測靈敏度極高，可滿足雙重和四重圖案微影技術的需求，同時保持極低的誤報率。

Aera 6 系統專為模擬微影成像機而設計，與其他配備先進光罩的高解析度檢測系統相比，可提供更高的檢測成功率。結合其固有的自動缺陷分類(印刷或非印刷)，並透過專注於先進的 AI 演算解決方案，該系統可讓光罩製造商將 ArF 技術擴展到下一代節點。

Aera 6 系統擴展了光罩商和晶圓廠的光罩檢測能力，以延長光罩的使用壽命並降低與光罩相關的成本。這些功能包括早期的霧狀偵測、完整的 193奈米和 EUV 曝光退化監控、邊緣錯位缺陷的2.5奈米解析度審查，以及使用 IntenCD™ 系統進行的全光罩 CD 均勻度映射。