半導体
市場と変化
ソリューションとソフトウェア
アプライド アプライド Aera™ 6 マスク検査システムは、第 6 世代の 193nm ベースの検査ツールで、真の航空イメージングと最先端の高解像度イメージングを組み合わせたユニークな点でユニークです。
新しいリソグラフィグレードのレンズとダブルCCDシステムを搭載したAera 6は、標準的な高解像度アプリケーションと航空検査の両方で、スループットを向上させたS/N比を実証します。このような機能により、逆 リソグラフィ やEUVマスク検査などの積極的な光学近接補正を備えたノードを含む、 メモリ および ロジック の最も高度なノードに最適なツールになります。このシステムは、非常に低い誤報率を維持しながら、ダブルおよび4重パターニングリソグラフィ技術に必要な高感度マスク検査を実行します。
リソグラフィスキャナをエミュレートするように設計されたAera 6システムは、高度なマスクを備えた他の高解像度検査システムよりも高い検査成功率を実現します。このシステムは、印刷または非印刷という固有の自動欠陥分類と組み合わせ、高度な AI アルゴリズム ソリューションに焦点を当てることで、マスク メーカーが ArF テクノロジーを次世代ノードに拡張できるようにします。
Aera 6システムは、マスクショップや工場のマスク検査機能を拡張し、マスクの寿命を延ばし、マスク関連コストを削減します。これらの機能には、ヘイズの早期検出、完全な193nmおよびEUV暴露劣化モニタリング、エッジ転位欠陥の2.5nm分解能レビュー、IntenCD™ システムを使用したフルマスク臨界寸法(CD)均一性マッピングが含まれます。