Producer Viva 自由基處理系統

隨著AI與高效能運算推動電晶體架構朝向更緊密的幾何尺寸發展，元件效能逐漸受到矽通道本身物理條件的限制。在環繞式閘極（GAA）電晶體結構中，奈米片對表面平滑度與潔淨度的有極高要求—僅數埃米等級的粗糙和雜質，就可能導致介面陷阱密度提升，進而降低載子遷移率與整體電晶體速度。

應材Producer^™ Viva^™ 自由基處理系統可對奈米片表面進行埃米級的精準工程化處理，以解決這項挑戰。Viva 的核心是一項專利的無離子自由基供給架構 ，可產生高度反應性純自由基物種。這些自由基具備等向性，能在深層、非直視路徑電晶體結構中，實現均勻且高度貼合的表面處理，同時完全避免離子電漿造成的結構性損傷。

透過降低矽原子在奈米片表面遷移所需的表面能，並有效清除不必要的雜質，自由基物種可促進理想的表面反應條件。此外，採用與電漿解耦、可獨立控制的多區加熱系統，能精準最佳化表面反應動力學，避免奈米片材料的非預期損耗。透過提供溫和、純自由基的製程，與，並具備獨立的表面反應動力學控制能力，Viva 系統不僅能平滑通道、降低介面陷阱密度，並改善 GAA 奈米片的物理表面狀態，同時也能確保這些精密、複雜的3D 結構維持其結構完整性。

隨著邏輯設計從鰭式場效電晶體（FinFET）過渡到 GAA，並進一步邁向互補式場效電晶體（CFET）等更先進的元件架構，通道表面品質將持續成為決定電晶體效能的主要關鍵因素。潔淨且高度均勻的奈米片表面可大幅提升通道的電子遷移率，而電子遷移率正是決定電晶體開關速度的關鍵因，進而打造更快、能源效率更高的電晶體，以滿足新一代 AI 晶片的需求。Viva 具備埃米等級精準度的表面工程能力，提供一項可擴展且可投入量產的解決方案，使電晶體效能得以滿足 AI 時代的需求。