Applied^® Sigmameltec^® SFD Mask Develop Series

對於透過鍍膜、曝露和烘烤這些受到高度控制製程的光罩，將已曝光的光阻圖案進行精確顯影，是保留光罩原有的 CD 均勻度不可缺少的一環。這項製程需要在光罩表面同時並均勻地分配顯影劑。因此採用足夠的流速可以避免顯影劑耗盡，同時也可以在光罩線寬尺寸的全部範圍內實現最佳 CD 線性。為了避免光罩缺陷，必須分離化學步驟，此外還需要防止液滴反彈到光罩表面。

Sigmameltec SFD 系統設計是以將顯影和最終沖洗步驟分開的兩個反應室為主，並且還在反應室之間採用濕式光罩轉移，以避免顯影後沖洗和最終沖洗的步驟之間發生乾燥。精確控制顯影劑溫度和流速可確保光罩到光罩的 CD 平均穩定性。具備光滑壁面和雙高度區域處理的寬腔反應室可防止飛濺至光罩之上，沖洗反應室和平台可以保證清潔一致，並且保證無缺陷光罩的製造。