在经过严格控制的涂胶、曝光和烘焙工艺处理后,曝光后的光刻胶图案的准确显影,对于保持光掩膜原有的 CD 均匀度至关重要。这需要在掩模表面均匀同步地分配显影液;需要足够的流量来避免显影液损耗,并在所有掩模特征尺寸上实现最佳 CD 线性度;必须隔离各个化学步骤,防止液滴回弹到掩模表面上,从而避免掩模缺陷。
Sigmameltec 的 SFD 系统采用双腔室设计,将显影与最终冲洗步骤分离,腔室之间采用湿式掩模转移,以避免在显影后冲洗与最终冲洗步骤之间,掩膜变干。精确控制显影液温度和流量可确保不同掩模的 CD 平均稳定性。腔室宽阔,内壁光滑,并采用双高度区域处理,可避免微粒溅回掩模上,腔室和阶段式冲洗可维持无缺陷掩模处理所需的一致洁净度。
主要特色与优点: