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光掩膜

光掩模包含集成电路图形。随着晶体管越来越小,光掩模也越来越复杂,以确保将图形精确转印到硅晶圆上。相应地,光掩模的制作过程日趋先进,即便光掩模存在细微的缺陷,也可能影响晶圆器件的性能。确保光掩模图形准确且零缺陷至关重要,对高端芯片更是如此。