半導體 (Semiconductor)
Raider® ECD
Raider ECD 系統佔地面積小、產量高，適用於 150 奈米-300 奈米單晶圓、自動化、多反應室電化學沉積。
300 毫米晶圓電鍍採用增強型反應室反應器，能機動性地改變電流密度，達到絕佳的沉積均勻度。多區陽極陣列便於在超薄和電阻性晶種層上電鍍。該系統採用離子薄膜來延長化學材料壽命，而且其「無教導」精密自動化功能可避免自動化再教導所造成的停機，並達到節約成本目標。