Producer^® Etch

應用材料 Producer Etch 採用 Twin Chamber^® 專利設計，是可靠、符合成本效益的生產工具，可供 90 奈米及以下的高生產力蝕刻應用。這套經生產驗證的高度精巧蝕刻機，可配置多達三個雙反應室 (Twin Chamber) 以達到最高產量。

Producer Etch 一方面可透過雙反應室和一個雙晶圓傳送盒 (FOUP) 雙自動機械工廠介面提供最高產能密度，另一方面還可提供單反應室效能和製程控制。每個雙反應室都可在單晶圓或雙晶圓模式下操作。透過調整電極間的間隙，可改變蝕刻速率、蝕刻率均勻度以及抗蝕劑選擇性，使不同的應用達到製程最佳化。

高效率電漿束縛、原處同時清洗以及高純度抗電漿反應室材料能達到高品質效能，並可在量產環境中達到 500 RF 小時或以上的濕式清潔間平均時間。Producer Etch 有理想的生產時間、高產能以及低擁有成本，是高生產力蝕刻應用的理想工具。