パターン成形

パターン成形プロセスでは、ウェーハ表面で選択した領域を横方向に除去するため、ラインまたはビアの端部間の間隔（先端から先端までの間隔）が最小化され、フィーチャ密度が最大化されます。

パターン成形は、リボンビームのエネルギーと材料除去技術を使用して、誘導結合プラズマから調整可能な角度の反応性リボンビームを独自に抽出することで、希望する形状と寸法のパターンを正確に成形します。 パターン成形は、EUVパターンの再形成に使用され、EUVダブルパターニングを行うことなく、間隔を狭めて密度を高めることができるのため、2回目のEUVパターニングシーケンスにかかるエネルギー、材料、水、コストを節約できます。