プロビジョン10 電子ビーム計測

半導体のフィーチャーの微細化が進み、デバイス構造が高密度で複雑になるにつれて、ファブプロセスは工程数が増加し、プロセス制御に課せられる制限はより厳しくなっています。現在の最先端のチップ設計には、光学的ターゲットベースの近似や統計的サンプリング、単層制御などを超える新しい計測手法が求められています。

PROVision ™ 10 システムは、サブナノメートル解像度、高速、スルーレイヤーイメージングと高度な専用アルゴリズムセットを組み合わせ、2nm ファウンドリロジックチップ、 GAAトランジスタ、次世代DRAMおよび HBM メモリ、バックサイド電源供給など、今日の最先端の設計を正確にパターン化するために必要な数百万のデータポイントを生成します。これらの機能によって、光学計測技術では見えなかった部分を見通すことができ、ウェーハ全面およびチップ上の多層間での正確な測定を可能にします。多次元のデータセットを生成することができ、最高のチップ性能を実現し、市場投入を加速します。

PROVision 10 システムは、その革新的な技術的特長により、歩留まりを改善、生産コストを削減し、市場投入までの時間を短縮します。業界トップ水準の 電子ビームカラム技術は、実証済みの冷陰極電界放出 (CFE: Cold Field Emission) 技術を計測装置に採用し、使用可能な最高レベルの電子密度を備えており、正確で実行性ある測定を1 時間あたり最大 1 億回行いながら、サブナノメートルレベルの解像度で詳細な画像処理を実現します。アプライド マテリアルズ独自の Elluminator ™技術は、反射電子の 95% を捕捉し、微細寸法とエッジプレースメントを複数レベルで同時に素早く計測します。電子ビームのエネルギー幅が広く、高エネルギーモードでは深さ数百nmの高速計測に対応し、低エネルギーモードではEUVフォトレジストなどのぜい弱な材料や構造のダメージフリー計測に対応しています。アプライド マテリアルズが数十年にわたって培ってきたCD-SEMとアルゴリズムの知見により、微細形状を正確かつ精緻に計測します。