あらゆるデバイスに対応した成膜技術

誘電体成膜

誘電体成膜では、絶縁特性を持つ材料の層を作製し、基板または表面に蒸着させます。誘電体膜は電気絶縁体として機能し、多くの種類の電子機器に使用されています。 アプライド マテリアルズは、酸化物、窒化物、シリコンなど、幅広い材料を網羅した包括的な誘電体膜製品ポートフォリオを提供しています。 その他の用途としては、形状や構造を作るためのパターニング膜、導電性金属層間の絶縁材、移動度の向上を通じてトランジスタの性能を高めるために圧縮応力と引張応力を持たせた膜を使用する歪みエンジニアリングなどがあります。 誘電体膜は、CVD（化学気相成長）プロセスを使用して蒸着されます。 誘電体膜の厚さは、希望する電気的特性と具体的なデバイス要件に応じて変えることができます。