パワー管理とスイッチデバイスへの要求は、モバイルコンシューマ電子機器の拡大と消費電力を低下させるスマートアプライアンスの導入により、高まっています。
これらの膜は、Centura DxZ CVD装置で製造可能な幅広い製品群に含まれています。アプライド マテリアルズの絶縁CVD膜における強みの基礎は、TEOS、シランベースの酸化膜、窒化膜から始まり、先進のチップ製造プロセス、Low-k、歪みエンジニアリング、...
View product detail
アプライド マテリアルズの特許取得済みHDP-CVDリアクターデザインとプロセステクノロジーは、STI、プリメタル絶縁膜、ILD、IMD、パッシベーションなどの幅広いアプリケーションにおいて、ドープおよび非ドープ膜の成膜を可能にします。
Applied Centura Epi装置は、世界中で約900台の200mmチャンバで採用されている、製造現場で実績のある枚葉式マルチチャンバ・エピタキシャル・シリコン成膜装置です。放射加熱された各チャンバは、正確かつ再現性のある成膜条件の制御を提供し、100％滑らない膜...
Applied Centura Etch Reactorsの新しい200mmテクノロジーは、MEMSの100：1以上のアスペクト比、SJ MOSFET向けのオール・イン・ワン・ハードマスクのオープントレンチストリップ、LEDやパワーデバイス向けのITO、GaNといった、...
MEMSやCMOSイメージセンサといった新興のアプリケーション、Si貫通電極（TSV）のようなパッケージングテクノロジーが、窒化アルミニウム（AIN）、酸化インジウム錫（ITO）、酸化アルミニウム（Al2O3）、ゲルマニウム（Ge）といった、PVDの開発を牽引しています...
150mmおよび200mm向けにも対応可能な統合されたポストCMP Mesaクリーナーはまた、効果的にスラリーを除去し、残留物の蓄積を防ぎ、パーティクルやウェーハのウォーターマークを最小限に抑えます。銅ダマシンアプリケーション向けには、高速かつ効率的、...
全世界で3000台以上の出荷実績を誇る、Applied Producerは、業界で最もコスト効率の高いウェーハ処理プラットフォームです。同プラットフォームの革新的なTwin Chamber構造により、最大6枚のウェーハの同時処理が可能で、生産性が向上します。
