化合物半導体は、元素周期表に載っている元素を2種類以上（たとえばIII族とV族の元素など）組み合わせたものです。化合物半導体は、シリコン（Si）半導体とは異なる材料特性（直接遷移型のエネルギーバンドギャップ、高い最大電界強度、高い電子移動度など）を持つことから、フォトニックデバイス、高速デバイス、ハイパワーデバイスなどの技術に活用されています。化合物半導体は、シリコン半導体に比べて内部の電子移動がはるかに速いため、100倍以上も高速な処理が可能になります。
これらの膜は、Centura DxZ CVD装置で製造可能な幅広い製品群に含まれています。アプライド マテリアルズの絶縁CVD膜における強みの基礎は、TEOS、シランベースの酸化膜、窒化膜から始まり、先進のチップ製造プロセス、Low-k、歪みエンジニアリング、...
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Applied Centura Etch Reactorsの新しい200mmテクノロジーは、MEMSの100：1以上のアスペクト比、SJ MOSFET向けのオール・イン・ワン・ハードマスクのオープントレンチストリップ、LEDやパワーデバイス向けのITO、GaNといった、...
アプライド マテリアルズの特許取得済みHDP-CVDリアクターデザインとプロセステクノロジーは、STI、プリメタル絶縁膜、ILD、IMD、パッシベーションなどの幅広いアプリケーションにおいて、ドープおよび非ドープ膜の成膜を可能にします。
MEMSやCMOSイメージセンサといった新興のアプリケーション、Si貫通電極（TSV）のようなパッケージングテクノロジーが、窒化アルミニウム（AIN）、酸化インジウム錫（ITO）、酸化アルミニウム（Al2O3）、ゲルマニウム（Ge）といった、PVDの開発を牽引しています...
全世界で3000台以上の出荷実績を誇る、Applied Producerは、業界で最もコスト効率の高いウェーハ処理プラットフォームです。同プラットフォームの革新的なTwin Chamber構造により、最大6枚のウェーハの同時処理が可能で、生産性が向上します。
