Applied^™ Sigmameltec^™ CTS Mask Coat Series

要达到先进水准的光掩膜 CD 均匀度，首先就要确保高质量的光刻胶涂布。在纳米级应用中，很多细微的因素变得重要，包括腔室空气的纯度、温度和湿度，掩模表面的预处理，光刻胶分配和旋涂特性，以及涂胶后烘焙形貌控制。

Sigmameltec 的 CTS 系统提供可控的环境，可用于生成具有可重复特性和超低缺陷水平的高品质光刻胶层。掩模基底的预处理可确保能够形成具有良好附着力的洁净表面，严格控制的光刻胶分配与旋涂程序，可在 1 nm (3s) 级别上确保镀膜的均匀度。镀膜腔配备适用于三种光刻胶类型的分配臂，还可以选装更多的分配臂。自动溶剂冲洗工艺可确保镀膜环境保持一致的洁净度。

主要特色与优点：

• 旋转腔经过优化设计，可形成高度均匀且可重复的涂层
• 多个光刻胶臂便于均匀分配先进光刻胶材料
• 采用严格温度控制的涂胶后烘焙和冷却板，使光刻胶保持稳定特性
• 超声波喷淋腔在镀膜前用 CO2 水冲洗去除基底上的颗粒
• 172 nm UV 处理可改善镀膜前的基底表面状态和光刻胶润湿性
• 集成式边缘胶滴去除装置便于精确修整具有尖锐形貌的光刻胶层
• 支持胺过滤的 1 类腔室可确保高品质镀膜
• 自动溶剂冲洗便于维持干净和无微粒的镀膜环境
• 可选装 HMDS 助粘剂蒸镀腔来增强光刻胶粘着性