Applied® Sigmameltec® CTS Mask Coat Series

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세계적 수준의 포토마스크 CD 균일도를 얻으려면 포토레지스트 코팅 품질부터 관리해야 합니다. 나노미터급에서는 챔버 내부 공기의 순도, 온도, 습도, 마스크 표면 전처리, 포토레지스트 디스펜스, 스핀 특성, PAB(도포후 베이크) 윤곽 제어 등 여러 가지 미세한 요인이 중요해집니다.

Sigmameltec의 CTS 시스템은 재현성이 우수하고 결함이 극히 적은 고품질의 포토레지스트층 형성을 뒷받침하는 제어된 환경을 제공합니다. 블랭크 마스크 전처리로 접착력이 뛰어난 청결한 표면을 확보할 수 있고, 엄격하게 조절된 포토레지스트 디스펜스와 스핀 프로그램으로 1nm(3s) 수준의 코팅 균일도를 얻을 수 있습니다. 코팅 챔버는 3가지 포토레지스트용 디스펜스 암이 포함되어 있으며 옵션으로 암을 추가할 수 있습니다. 자동 용제 세척으로 항상 청결한 코팅 환경이 보장됩니다.

주요 특징 및 장점

  • 균일하고 재현성 높은 코팅에 최적화된 스핀 챔버 디자인
  • 최신 포토레지스트 물질을 균일하게 디스펜스하기 위한 다중 포토레지스트 암
  • 포토레지스트 특성 안정화를 위해 엄격한 온도 조절이 가능한 PAB 및 쿨링 플레이트
  • 코팅전 CO2 용액 세척으로 파티클을 제거할 수 있는 제트 메가소닉 챔버
  • 코팅전 표면 상태 향상 및 포토레지스트 습윤성(wettability) 개선을 위한 172nm 자외선 처리
  • 정밀한 포토레지스트 트리밍과 예리한 윤곽을 위한 에지 비드(edge bead) 제거 장치
  • 고품질 코팅용 아민 여과기를 갖춘 Class1 수준의 챔버
  • 파티클 없는 청결한 코팅 환경 유지를 위한 자동 용제 세적
  • 포토레지스트 접착력 개선을 위한 HDMS 프라임 챔버 옵션