Aera 6 光照掩膜检测

应用材料公司的Aera^™ 6光照掩膜检测系统是第六代基于 193纳米的检测工具，能独特地将真实的空间成像与尖端的高分辨率成像相结合。

Aera 6 配备了新的光刻级镜头和双重CCD 系统，在标准高分辨率应用和航空检查中均具有增强的信噪比，并提高了传输速度。 这些功能使其成为内存和逻辑芯片先进节点的首选工具，包括具有积极光学邻近校正的节点，例如逆向光刻和 EUV 掩膜检测。 该系统可执行高度灵敏的掩膜检测，满足双重和四重图案光刻技术的要求，同时保持非常低的误报率。

Aera 6 系统旨在模拟光刻扫描仪，与其它配备先进掩膜的高分辨率检测系统相比，其检测成功率更高。 结合其固有的自动缺陷分类（在掩模版下印刷或非印刷），并通过专注于先进的 AI 算法解决方案，该系统允许掩膜制造商将 ArF 技术扩展到下一代节点。

Aera 6 系统扩展了掩膜供应商和晶圆厂的掩膜检测能力，以延长掩膜的使用寿命并降低掩膜相关成本。 这些功能包括早期雾霾检测、完整的 193纳米和极紫外光（EUV）曝光退化监控、边缘位错缺陷的 2.5纳米分辨率检查以及使用 IntenCD ^™系统的全掩膜临界尺寸 (CD) 均匀性映射。