Producer^® BLOk^™ PECVD

어플라이드의 Producer BLOk (Barrier Low-k) PECVD 시스템은 다마신 인터커넥트 응용 분야를 위한 업계 최고의 극 저 유전율 구리 차단층과 식각 정지층을 생산합니다. Producer의 Twin Chamber® 구조에서는 각 웨이퍼가 BLOk 증착 전에 특허를 받은 연속적 구리 산화물 제거 공정을 거치기 때문에 구리 또는 코발트 접착력이 우수하고 엘렉트로마이그레이션이 적습니다.

BLOk 필름은 유전체 필름 스택의 커패시턴스를 크게 줄이고 뛰어난 식각 선택비와 전기적 성능을 유지해 지속적인 RC 미세화가 가능합니다. 검증된 표면 준비와 개시층 공정으로 BLOk II를 Black Diamond와 쉽게 통합할 수 있고 45nm 이하의 응용 분야를 위한 원활한 세대 전환을 보장합니다.

검증된 고 생산능력 Producer 플랫폼에서 최대 6개의 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있기 때문에 생산성이 우수하고 소유 비용이 크게 감소하고 시스템 신뢰성이 높습니다. 플랫폼 확장성 덕분에 고객이 Producer 도구 세트를 여러 가지 나노급 공정에 사용할 수 있습니다.