ホークアイ光学検査

チップ構造がますます小さくなり、プロセスが複雑になるにつれて、 効果的なプロセス制御を可能にするためには、より多くの検査ステップが必要になります。同時に、ファブはコストを管理する必要があるため、検査の総コストを最適化するアプローチを導入する必要があります。 明視野 と 暗視野 の両方の光学検査技術を組み合わせること が、費用対効果の高い歩留まりの監視と制御の鍵となります。最終的な目標は、すべての重要なプロセスステップですべての主要な欠陥タイプを検出して、ファブが開発の早い段階で問題を特定して修正し、より高いウェーハ 歩留まり と信頼性 を備えた大量生産に移行できるようにすることです。

HawkEye^™ 光学検査システムは、エッチング、CMP、蒸着、リソグラフィ、イオン注入、およびさまざまなカスタムプロセスモジュールの後、粒子、パターン欠陥、スクラッチ、こぶなどの暗視野欠陥のパターン化されたウェーハを検査するために使用されます。 深紫外(DUV) レーザー光源は、2nmまでのメモリチップやロジックチップのフィン、ゲートオールアラウンド層、相互接続層、およびICAPS(IoT、通信、自動車、電力、センサー)市場で見られる幅広いデバイスをスキャンする際に、高感度と高スループットを提供します。HawkEye光学システムの所有コストが低いため、全体的な検査コストを低く抑えると同時に、より多くの検査ポイントを可能にして、歩留まりと信頼性の向上につながります。

HawkEye光学システムは、検査スループットを最大化し、パターン化されたフロントエンドオブライン、ミドルオブライン、バックエンドオブラインレイヤーのすべての表面欠陥を検出するように設計されています。これは、アプライド マテリアルズ エンライト™の明視野光学検査システムを補完するもので、ファブは包括的な明視野および暗視野検査戦略を追求できます。