PVD

その名前が示すように、物理気相成長（PVD）は、化学プロセスではなく物理プロセスです。このテクノロジーでは、重いが不活性なガス（通常、アルゴン）のイオンが、高真空で電気的に加速され、原材料でできた「ターゲット」の方に送られます。これらのイオンは、原子単位で、ターゲット材を実質的に削り取る、すなわち「スパッタ」します。このスパッタされた素材、純粋金属または合金、透明導電性酸化物（TCO）、および酸化物半導体が、雪が表面に積もるように、基板の上に成膜します。プロセスチャンバの高真空環境では、原子は、微量のターゲット材と合体できます。その後、パターン形成およびエッチングが行われ、ディスプレイにトランジスタ構造および電導回路が形成されます。