Centura Xtera(센츄라 엑스테라) 에피

반도체 산업이 기존 칩의 성능 한계를 뛰어 넘으면서, 로직용 GAA(게이트-올-어라운드) 트랜지스터와 메모리용 수직 FinFET 등 디바이스 설계가 3D 아키텍처로 변화하고 있습니다. 이러한 첨단 구조는 고종횡비 환경에서 정밀한 에피택셜 성장 기술을 요구합니다.

어플라이드 머티어리얼즈 Centura™ Xtera™ 에피는 차세대 로직 및 메모리 디바이스의 새로운 요구 사항을 충족하도록 설계된 획기적인 선택적 에피택시 플랫폼입니다. Centura Xtera 에피는 선택적 에피택셜 성장의 가장 까다로운 과제를 해결하도록 특화되어 있으며, 칩 제조사가 새로운 애플리케이션을 구현하고 고생산성·저위험 솔루션을 대량 생산으로 원활히 확장할 수 있도록 지원합니다. 주요 혁신 기술:

• 정밀한 증착 단면으로 전구체 공급을 개선해 균일성과 고품질 에피택시 구현
• 복잡한 재료의 에피택셜 성장을 위한 정밀 화학 제어가 가능한 최적화된 화학물질 전달
• 첨단 모니터링 하드웨어로 실시간 웨이퍼 온도 제어 및 공정 안정성 확보

가장 작은 에피택시 공정 볼륨을 제공하는 Centura Xtera 에피는 성능 향상과 에너지·재료 절감이라는 새로운 가능성을 열어줍니다. 이미 주요 파운드리 로직 고객이 채택한 Centura Xtera 에피는 에피택시의 새로운 기준을 제시하며, 반도체 제조의 미래를 이끄는 어플라이드 머티어리얼즈의 최첨단 솔루션에 대한 혁신을 보여줍니다. 이 첨단 아키텍처는 개선된 래디얼 가스 농도 및 에지 프로파일 관리 등 에피택셜 공정 제어 기술의 기반을 마련할 뿐 아니라, 디바이스 복잡성이 증가하는 가운데 제조사가 차세대 노드 전반에 걸쳐 일관되게 성능, 신뢰성, 효율성을 제공하면서 에피택시를 안정적으로 확장할 수 있도록 지원합니다.