아날로그 및 혼합 신호 IC의 성장은 무선 기술의 확대로 촉진되었습니다. 이러한 부류의 소자에서는 더 높은 주파수와 출력이 요구됩니다.
이러한 필름은 Centura DxZ CVD 시스템에서 처리할 수 있는 다양한 공정 포트폴리오에 해당됩니다. 유전체 CVD 필름에 대한 어플라이드의 강점은 TEOS, 실란 기반 산화물과 질화물에서 시작되었으며 저 유전율, 신축 변형 가공,...
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특허를 받은 어플라이드 머티어리얼즈의 Ultima HDP-CVD 반응기 설계와 공정 기술은 트렌치 소자 분리(STI), 전금속 유전체(PMD), 층간 절연체(ILD), 금속간 절연체(IMD), 패시베이션을 포함한 다양한 응용 분야에서 무도핑(...
어플라이드의 Centura Epi 시스템은 생산을 통해 검증된 단일 웨이퍼, 다중 챔버 방식의 에피택시 실리콘 증착 시스템이며 전세계적으로 약 900대의 200mm 챔버가 사용되고 있습니다. 복사열로 가열되는 개개의 공정 챔버가 증착 조건...
어플라이드의 Centura Etch Reactor가 해결하는 200mm 기술의 새로운 당면 과제로는 MEMS를 위한 종횡비 >100:1의 실리콘 식각, SJ MOSFET를 위한 올인원 하드 마스크 오픈 트렌치 스트립, LED와 전력 소자를...
마이크로 기전 시스템(MEMS), CMOS 이미지 센서, 실리콘 관통 전극(TSV) 같은 패키징 기술의 새로운 응용 분야로 인해서 알루미늄 질화물(AlN), 인듐 주석 산화물(ITO), 알루미늄 산화물(Al2O3), 게르마늄(Ge) 같은 필름의...
150mm와 200mm에도 사용할 수 있는 일체형 CMP 후속 Mesa 클리너는 효과적으로 슬러리를 제거해서 잔류물 생성을 방지하고 입자와 워터마크를 최소화합니다. 구리 다마신 응용 분야의 경우에는 빠르고 효과적이고 워터마크가 없는 건조를 위한...
전세계적으로 3,000여 대가 판매된 어플라이드 Producer는 업계에서 가장 비용 효율적인 웨이퍼 처리 플랫폼입니다. 혁신적인 트윈 챔버 구조 덕분에 최대 6개의 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있어 생산성이 더 높습니다.
