Producer^® DARC^® PECVD

应用材料公司的 Producer DARC PECVD 是行业领先的抗反射涂层薄膜，可在 90nm 及以下节点应用中，最大限度降低反射率、减少光刻胶中毒，提高光刻胶的附着力。

APF/DARC 薄膜叠层与应用材料公司的 APF™（先进图形化薄膜）可剥离 CVD 硬掩膜结合使用，可提升刻蚀优化解决方案的刻蚀选择比、CD 控制和线条边缘粗糙度。应用材料公司的 Producer DARC PECVD 提供广泛的折射率和消光系数值精调范围，可在多种应用中实现无与伦比的反射控制。这些薄膜可与其他 CVD 介电层原位集成，以实现高效率和低拥有成本。

DARC 193 广泛用于传统的栅极、多晶硅和铝互连光刻应用，对低 k 介电薄膜具有出色的附着力，特别适合双镶嵌互连方案。