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光掩膜

光掩模使芯片设计能够集成数十亿的器件,从而推动晶体管微缩领域取得大幅进步。随着晶体管越来越复杂,以及 193nm 光刻技术的扩展,在 7nm 节点,每个芯片设计中将需要 80 个或更多的光掩模。