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Productsort descending 技术 应用 平台
Aera4™ 掩膜检测 测量与检测 Photomask, 图形化 Aera™
Applied® Sigmameltec™ CTS Mask Coat Series Photomask, 图形化
Applied® Sigmameltec™ MRC Mask Clean Series Photomask, 图形化
Applied® Sigmameltec™ SFB Mask Bake Series Photomask, 图形化
Applied® Sigmameltec™ SFD Mask Develop Series Photomask, 图形化
Centris® AdvantEdge™ Mesa™ 刻蚀系统 刻蚀 互连线, 图形化, 存储, 晶体管 Centris™
CENTRIS® SYM3™ 刻蚀系统 刻蚀 互连线, 图形化 Centris™
Centura® AdvantEdge™ Mesa™ 刻蚀 刻蚀 互连线, 图形化, 存储, 晶体管 Centura®
Centura® Tetra™ EUV 先进光掩模刻蚀系统 刻蚀 Photomask, 图形化 Centura®
Centura® Tetra™ Z 光掩膜刻蚀系统 刻蚀 Photomask, 图形化 Centura®
Endura® Cirrus™ HTX PVD PVD(物理气相沉积) 互连线, 图形化 Endura®
Producer® APF™ PECVD CVD(化学气相沉积) 图形化 Producer®
Producer® DARC® PECVD CVD(化学气相沉积) 图形化 Producer®
Producer® Selectra™ Etch 刻蚀 图形化 Producer®
PROVision™ eBeam Inspection 测量与检测 图形化
SEMVision™ G7 缺陷分析系统 测量与检测 图形化
VeritySEM® 5i 测量 测量与检测 互连线, 图形化 VeritySEM™