Producer^® CVD 

CVD 技术在半导体加工工艺中至关重要，无论逻辑器件、DRAM、NAND，还是 MtM 细分市场中的 MEMS、光电器件、物联网和功率器件等技术，CVD 是所有半导体器件制造不可或缺的设备。应用材料公司的 Producer 平台已成为多种薄膜开发的基础平台，每种薄膜都有其独特的一系列工艺要求，而且要沉积在同样形态不一的各种几何结构（毯覆、间隙填充、共形）上，Producer 平台可以很好满足这些技术需要。

Producer 平台能处理 150 毫米、200 毫米和 300 毫米晶圆，自 1998 年问世以来，跨越了10个结点的关键技术拐点（10 个结点），是有史以来最成功的平台之一。其创新的 Twin Chamber^® 双腔室结构可同时处理多达六片晶圆，具有极佳的生产效率。借助陶瓷加热器和腔室组件以及用于腔室清洁的远程等离子体源，Producer 系统可将 CVD 膜的缺陷率降至最低。从装载腔晶圆映射、到清晰的晶圆定向、再到晶片放置，该平台能可靠而细致地处理各种 MtM 衬底（包括碳化硅晶圆）。

除了传统的 PECVD（基于TEOS和硅烷的氧化物以及氮化物）和亚大气压的 CVD 膜外，Producer 系统还适用于低介电常数、应变工程、可光刻膜以及热膜，高温 PECVD 应用，硅锗（SiGe）和非晶硅（a-Si）。它在 MtM 器件方面的一些应用示例包括较厚的膜（≥20µm），较低温度的工艺（180°-350°C），更保形的膜及诸如低温 PECVD 硅锗（<50um）和非晶硅（a-Si）等新材料。

平台的可扩展性使客户可以将Producer工具组件用于多种设备类型和工艺节点。