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    Applied Botticelli™

    BOTTICELLI LED SOLAR SIMULATOR

    Applied's light-emitting diode (LED) Solar Simulator is a class A+A+A+ LED-based flasher for IV...

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    Applied Tempo™ Presto™

    TEMPO PRESTO LARGE WAFERS

    Tempo Presto Large Wafers (LW) is the current masterpiece platform for solar cells metallization; the...

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    Applied Tempo™ Presto™ PE

    TEMPO PRESTO for PRINTED ELECTRONICS

    Tempo Presto for Printed Electronics (TP_PE) is the latest screen-printer product launched...

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    Endura

    Endura® CIRRUS™ HT Co PVD

    集積回路と他のコンポーネントのスケールダウンが進むに連れ、メタル配線とコンポーネント間のコンタクトも縮小しています。結果として、これらのコネクタにおける抵抗が増大しています。さらなる微細化を実現し、よりコンパクトで速い電子デバイスを達成するためには、...

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    Activity Manager

    Activity Manager

    In semiconductor manufacturing, unrealized manufacturing capacity, lag‐time due to workstation events and exception handling can all...

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    Aera4™ マスク検査装置

    アプライド マテリアルズのAera4™ 検査装置は、忠実な空間像と先進の高精細画像を独自に組み合わせた第4世代の193nmベースの検査装置です。

    最新リソグラフィーグレードのレンズを備えたAera4システムでは、...

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    Aeris™-Gプラズマ除去装置

    Applied Aeris™-Gシステムはプリポンプによるプラズマ除去ソリューションで、ポストポンプの除去ユニットよりも、実際のプロセスガスを少量かつ濃縮して使用することで、消費電力を低減します。除去処理中のAeris-Gチャンバ内で、...

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    Aeris-S

    Aeris™-S

    Designed to treat the “dirtiest” applications, the Aeris-S operates by converting problematic materials into compounds that can be...

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    Aeris-Si

    Aeris™-Si

    Aeris-Si is an integrated solution for subfab foreline cleaning to manage silica load and improve pump lifetime. The solution enables a...

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    AKT 55KS PECVD

    AKT® 55KS PECVD

    アプライドの新しいAKT 55KS PECVD装置は、市場をリードする精密なプラズマCVD技術により、2200mm x 2500mmサイズの基板に酸化物半導体（MO）トランジスタ用の絶縁膜を成膜します。水素不純物を最小化する新しい高品質な二酸化ケイ素（SiO2）...

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    AKT® NEW ARISTO™ CF

    完全に自動化された縦型インライン スパッタリング 装置として、NEW ARISTOは、業界最高のスループットを提供します。自動ロード、アンロード機能および弊社の特許取得済み磁気キャリア搬送システムによって、サイクル時間を大幅に短縮することができます。さらに、...

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    AKT® New Aristo™ Touch

    最新の静電容量タッチパネルでは、二酸化ケイ素（SiO2）酸化インジウムスズ（ITO）金属および合金からなる複数の膜が、ガラス基板の片面または両面に成膜されます（図を参照）。Aristo Twinの並列構造によって、一つのAristo Twin装置で、...

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    AKT®-PECVDシステム
    アモルファスシリコン用プラズマ強化化学気相成長（PECVD）装置

    AKT-PECVDシステムは、アモルファスシリコン（a-Si）と酸化物半導体（MOx）の両方のバックプレーン技術向けのプロセスを提供し、ドープ/アンドープ膜a-Si）、酸化ケイ素膜（SiOx）、酸化窒化ケイ素（SiON）膜、窒化ケイ素膜（SiN）、およびin-...

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    AKT®-PiVot™ DT PVD

    AKT-PiVot 55K DT PVDおよび25K DT PVDシステムは、フラットパネルディスプレイ用の2200mm x 2500mmおよび1500mm x 1850mmガラス基板上に、TFTや接続層を作成する非常に重要なフィルム層を成膜し、大型テレビの製造、...

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    AKT®-PX PECVD

    プラズマCVD装置のApplied AKT-PXファミリーは、1.6～5.7m2（第5世代～第8.5世代）のガラス基板に、均一性の高い低温ポリシリコン（LTPS）膜を成膜します。低温ポリシリコン技術は、有機ELディスプレイ（AMOLED）...

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    AKT®電子ビーム アレイ検査

    機械的な動作が非常に小さいAKT EBT TFTアレイ検査装置は、高い信頼性、短いダウンタイム、低いランニングコストを実現します。電子ビームアレイ検査装置は、複数の平行な電子ビームを使い、高速で広範囲のビーム位置決めを行い、高いスループットを達成します。...

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    AKT®電子ビームレビュー

    ディスプレイ用に現在使われているインライン自動光学欠陥検査ツールは、キラー欠陥かそうでないかを区別する、または欠陥のシステム上の根本原因を判断するのに、走査型電子顕微鏡（SEM）分析ほど有効ではなく、ディスプレイに関してSEM分析を行うには、ガラス基板を破砕し、...

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    ALTA 4700DP

    ALTA® 4700DP Mask Writer

    The ALTA 4700DP system provides cost-effective patterning of binary masks and phase shifting masks (PSM), supporting fast turnaround and...

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    Analytics & Control

    SmartFactory Rx Analytics & Control increases yield, prevents deviations, and assures quality.

    Monitoring and advanced control...

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    RTD and Reporter

    APF RTD

    Based on the proven technology of APF RTD®, the potential to produce more with the same equipment and personnel, while doing it in a...

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    APPLIED CLEANCOAT™

    CleanCoat is a plasma coating Total Kit Management® solution that delivers higher surface roughness and increased surface area. It...

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    APPLIED HEADSMART®

    HeadSmartは洗浄、パーツ交換、再組み立て、検査を組み合わせた、Total Kit Management® CMPヘッド リビルドサービスです。HeadSmartは、CMPヘッドが装置においてより高い性能を発揮する、...

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    Applied MDLx™ Ginestra™ Simulation Software

    Ginestra™ is a software product designed to simulate the operation and electrical characteristics of modern logic (e.g., FinFET, FeFET)...

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    Applied PECVD 5.7™

    Applied PECVD 5.7™

    Applied PECVD 5.7は、最大5.7㎡サイズのガラス基板上に薄膜シリコンソーラーパネルの活性層を成膜します（世界最大のモジュールサイズ）。Applied PECVD 5.7には、全世界で800台以上の納入実績を持つアプライド マテリアルズのTFT-...

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