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Enlight® 光学ウェーハ検査装置

半導体の デザインやプロセスの複雑化が進むにつれ、半導体製造にかかるコストが高騰しています。そのため、コストの懸念からウェーハ製造工程において十分な欠陥 検査が行えていない状況です。ところが、最先端のトランジスタは、きわめて微細な形状のため、歩留まりに致命的な欠陥とノイズ との区別が難しくなっているため、3Dトランジスタの構築で複雑なマルチパターンステップを形成する際に、わずかなばらつきが増幅されて歩留まりを損なう欠陥につながる場合があります。これらの課題の解決には、検査の頻度を上げることが必要です。

光学ウェーハ検査装置Enlightは、プロセスコントロールに向けたアプライド マテリアルズの新しい取り組みの一つで、これにより半導体メーカーは、要求される最高の検査感度、検査頻度、データ収集量を達成して歩留まりを向上させ、1ウェーハスキャンあたりのコストを削減できるようになります。業界トップクラスの処理速度と、高解像度、先進的光学機器を組み合わせ、1回のスキャンでより多くのデータを収集できます。独自のアーキテクチャを採用し、高解像度のスキャンを実現する市場最高水準の高NA(numerical aperture:開口数)と、ウェーハノイズを抑制する独自の3次元偏光制御を備えています。また、ブライトフィールドグレイフィールド の同時検出チャンネルを持つ唯一のシステムで、柔軟な画像処理が可能です。これらすべての機能により、製造ラインでの高品質なビッグデータの生成が可能になります。  

Enlightシステムは、ビッグデータの生成により、致命的欠陥の検出コストを3分の1に抑えます。CoO(Cost of Ownership)が削減できるため、半導体メーカーは製造工程により多くの検査ステップを増やして、迅速かつ正確な原因究明を行うことができます。さらに、ビッグデータの活用により、タイムリーな エクスカーションの予測・検出のためのラインモニタリングが可能になります。

アプライド マテリアルズの取り組みに欠かせないのが、画期的なExtractAI™テクノロジーで、Enlightシステムのビッグデータと連携することによりウェーハ検査で最も困難な課題を解決します。それは、歩留まりキラー欠陥とノイズを区別することです。ExtractAIテクノロジーは、機械学習と統計処理アルゴリズムを用いて、Enlightシステムと市場をリードするアプライド マテリアルズの電子ビームレビュー・分類装置SEMVision®との間をリアルタイムで接続します。ExtractAIテクノロジーはきわめて効率性が高く、SEMVisionを欠陥ごとにガイドした後、潜在的な欠陥のわずか0.001Xを介して、ウェーハ上のすべての必要な欠陥を抽出できます。ExtractAIはリアルタイムで学習し、連続して処理されるウェーハに対し、完全に分類され、徹底的にノイズを除去したウェーハ欠陥マップを順次作成します。

アプライド マテリアルズの光学ウェーハ検査装置Enlight、ExtractAIテクノロジー、電子ビームレビュー装置SEMVision を組み合わせることにより、半導体工場ではより多くの実用的なデータをこれまでになく迅速に入手することができ、CoOを削減して歩留まりを向上し、市場投入までの期間を短縮することができます。