酸化物半導体は、アモルファスシリコン（a-Si）の最大10倍の電子移動度を示します。主な酸化物半導体の候補は、インジウムガリウム酸化亜鉛（IGZO）です。
アプライドの新しいAKT 55KS PECVD装置は、市場をリードする精密なプラズマCVD技術により、2200mm x 2500mmサイズの基板に酸化物半導体（MO）トランジスタ用の絶縁膜を成膜します。水素不純物を最小化する新しい高品質な二酸化ケイ素（SiO2）...
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AKT-PiVot 55K DT PVDおよび25K DT PVDシステムは、フラットパネルディスプレイ用の2200mm x 2500mmおよび1500mm x 1850mmガラス基板上に、TFTや接続層を作成する非常に重要なフィルム層を成膜し、大型テレビの製造、...
機械的な動作が非常に小さいAKT EBT TFTアレイ検査装置は、高い信頼性、短いダウンタイム、低いランニングコストを実現します。電子ビームアレイ検査装置は、複数の平行な電子ビームを使い、高速で広範囲のビーム位置決めを行い、高いスループットを達成します。...
