アプライドの新しいAKT 55KS PECVD装置は、市場をリードする精密なプラズマCVD技術により、2200mm x 2500mmサイズの基板に酸化物半導体(MO)トランジスタ用の絶縁膜を成膜します。水素不純物を最小化する新しい高品質な二酸化ケイ素(SiO2)...
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AKT-PECVDシステムは、アモルファスシリコン(a-Si)と酸化物半導体(MOx)の両方のバックプレーン技術向けのプロセスを提供し、ドープ/アンドープ膜a-Si)、酸化ケイ素膜(SiOx)、酸化窒化ケイ素(SiON)膜、窒化ケイ素膜(SiN)、およびin-...
プラズマCVD装置のApplied AKT-PXファミリーは、1.6~5.7m2(第5世代~第8.5世代)のガラス基板に、均一性の高い低温ポリシリコン(LTPS)膜を成膜します。低温ポリシリコン技術は、有機ELディスプレイ(AMOLED)...