アプライドの新しいAKT 55KS PECVD装置は、市場をリードする精密なプラズマCVD技術により、2200mm x 2500mmサイズの基板に酸化物半導体（MO）トランジスタ用の絶縁膜を成膜します。水素不純物を最小化する新しい高品質な二酸化ケイ素（SiO2）...
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AKT-PECVDシステムは、アモルファスシリコン（a-Si）と酸化物半導体（MOx）の両方のバックプレーン技術向けのプロセスを提供し、ドープ/アンドープ膜a-Si）、酸化ケイ素膜（SiOx）、酸化窒化ケイ素（SiON）膜、窒化ケイ素膜（SiN）、およびin-...
プラズマCVD装置のApplied AKT-PXファミリーは、1.6～5.7m2（第5世代～第8.5世代）のガラス基板に、均一性の高い低温ポリシリコン（LTPS）膜を成膜します。低温ポリシリコン技術は、有機ELディスプレイ（AMOLED）...
