VIISta HCP 注入机采用维利安具有开创性的单晶圆高电流技术,能提供高成品率和行业最佳生产效率。
在双磁铁带状波束架构上的创新,改进了波束线传输、晶圆上的束流运用以及波束电流输出。
VIISta HCP 的双磁铁带状波束架构,可将晶圆与注入源反应腔内的沉积以及波束线元件内的波束撞击所产生的微粒相隔离。
VIISta HCP 利用闭回路维利安定位系统来测量并调整波束控制,以提供准确、可重复以及相互联动的入射角控制,实现真正的零角度和精准倾斜角度注入。
选配的 VIISta HCP PTC II 配置,提升了 HCP 平台性能,具备低温注入能力,可用于损伤控制工程和精准材料修正应用。在先进节点工艺中,如何将掺杂剂活化和消除末端缺陷成为重大的挑战,这些都会阻碍高性能芯片的微缩。