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Productsort descending 技術 轉折點 平台
Aera4™ 光罩檢測 量測與檢驗 Photomask, 圖案化 Aera™
Applied® Sigmameltec™ CTS Mask Coat Series Photomask, 圖案化
Applied® Sigmameltec™ MRC Mask Clean Series Photomask, 圖案化
Applied® Sigmameltec™ SFB Mask Bake Series Photomask, 圖案化
Applied® Sigmameltec™ SFD Mask Develop Series Photomask, 圖案化
Centris™ AdvantEdge™ Mesa™ 蝕刻系統 蝕刻 圖案化, 導線, 記憶體, 電晶體 Centris™
CENTRIS™ SYM3™ 蝕刻 蝕刻 圖案化, 導線 Centris™
Centura® AdvantEdge™ Mesa™ 蝕刻系統 蝕刻 圖案化, 導線, 記憶體, 電晶體 Centura®
Centura® Tetra™ EUV 先進光罩蝕刻系統 蝕刻 Photomask, 圖案化 Centura®
Centura® Tetra™ Z 光罩蝕刻系統 蝕刻 Photomask, 圖案化 Centura®
Endura® Cirrus™ HTX PVD PVD 圖案化, 導線 Endura®
PRODUCER® APF™ (先進曝光圖樣薄膜) PECVD (電漿輔助化學氣相沉積) CVD 圖案化 Producer®
Producer® DARC® PECVD CVD 圖案化 Producer®
Producer® Selectra™ Etch 蝕刻 圖案化 Producer®
PROVision™ eBeam Inspection 量測與檢驗 圖案化
SEMVision™ G7 缺陷分析系統 量測與檢驗 圖案化
VeritySEM® 5i 量測 量測與檢驗 圖案化, 導線 VeritySEM™