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ALD

ALD 是当今最先进的平面器件及行业转向 3D 架构的关键推动因素。应用材料公司的 ALD 系统可在晶圆上面沉积各类氧化物、金属氮化物和金属物,每次沉积单层厚度的几分之一,以在先进晶体管、存储器件和互连应用中制造超薄薄膜层。