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Raider® Mini ECD

Raider M 是自动化、高性能单晶圆 ECD(电气化学沉积)系统。它配备精密的全自动晶圆搬运系统以及独立工艺腔室,并与自动化化学管理系统兼容。在 Raider M 平台上开发的工艺和配方可直接转用于 Raider GT ECD 量产制造系统,从而实现从研发到全面投产的快速无缝过渡。

  • 先进金属沉积室
  • 一个或两个工艺腔室
  • 150mm、200mm 或 300mm 晶圆尺寸
  • 符合 SEMI S2/S8 标准
  • 通过电离技术控制微环境
  • 开放式载片盒、SMIF 和 FOUP 装载站
  • 占地面积小 (<2m²)
  • 灵活的设计
  • 先进的加工

应用

  • 电解金属沉积(铜、金、镍、焊接合金等)
  • 无铅电镀开发
  • 3D 芯片堆叠研发