skip to main content

AKT®-PECVD设备
用于非晶硅应用

业界领先的应用材料公司AKT-PECVD平台在用来制造液晶显示面板的大面积玻璃基板上沉积绝缘薄膜。实际上韩国、中国、台湾和日本的每一家主要的薄膜晶体管液晶显示面板(TFT-LCD)制造商都在使用应用材料公司的等离子体增强化学气相镀膜(PECVD)系统。

AKT-PECVD设备为非硅晶(a-Si)和金属氧化物(MOx)背板技术提供工艺,可使用的薄膜包括掺杂及未掺杂非晶硅(a-Si)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiON)、氮化硅(SiN),并且实现一次多层沉积镀膜。

应用材料公司先进的PECVD技术提供快速且低本高效的方法,将金属氧化物晶体管技术引进市场,这是制造下一代超高分辨率显示面板的一种新技术。应用材料公司的PECVD氧化硅薄膜为金属氧化物晶体管提供一层电介质层界面,将氢杂质含量降低到最低程度,改善晶体管的稳定性进而提高面板性能。

专有的镀膜室技术使AKT-PECVD设备能够取得卓越的薄膜均匀性和电性,揽括显示面板行业所有世代线的玻璃尺寸,从2代线(0.2平方米)直至10代线(9平方米)