AKT^®-PECVD设备用于非晶硅应用

业界领先的应用材料公司AKT-PECVD平台在用来制造液晶显示面板的大面积玻璃基板上沉积绝缘薄膜。实际上韩国、中国、台湾地区和日本的每一家主要的薄膜晶体管液晶显示面板(TFT-LCD)制造商都在使用应用材料公司的等离子体增强化学气相镀膜(PECVD)系统。

AKT-PECVD设备支持非硅晶(a-Si)和金属氧化物(MOx)背板技术，可使用的薄膜包括掺杂及未掺杂非晶硅(a-Si)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiON)、氮化硅(SiN)，并且可以一次多层沉积镀膜。

应用材料公司先进的PECVD技术提供快速且低本高效的方法，将金属氧化物晶体管技术引进市场，这是制造下一代超高分辨率显示面板的一种新技术。应用材料公司的PECVD氧化硅薄膜为金属氧化物晶体管提供一层介电质层界面，将氢杂质含量降低到最低程度，改善晶体管的稳定性进而提高面板性能。

专有的镀膜腔技术使AKT-PECVD设备能够取得卓越的薄膜均匀性和电性，支持从2代线（0.2平方米）到11代线（9.9平方米）显示面板行业所有世代线的玻璃尺寸。