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AKT®New Aristo™触控系统

最先进的电容触控面板有多种二氧化硅(SiO2)氧化铟锡(ITO)金属,以及沉积在一块玻璃基板的一面或两面的合金薄膜(如图所示)。Aristo双轨设备的平行架构,使单台Aristo双轨设备能够沉积电容触控面板制造工艺流程所要求的全部PVD膜层。

该设备还将触控面板制造提高至新的生产水平,其产出比其他竞争社设备高出40%。单独真空轨道概念与经过实践验证的镀膜室和基板输送机制相结合,确保更长久的正常运行时间。在一侧真空轨道进行维护的同时,另一侧真空轨道仍在正常运行生产。

为进一步延长维护间隔,镀膜模块具备前沿的旋转靶技术,比传统的平面靶有更高的靶材利用率,达到最佳薄膜质量与微粒控制水平从而实现高良品率。