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AKT®55KS PECVD系统

用于金属氧化物应用的等离子体增强化学气相镀膜设备

应用材料公司新的AKT 55KS等离子体增强化学气相镀膜设备(PECVD)把在市场上处于领先地位的精密PECVD技术引入2200毫米 x 2500毫米尺寸基板。该系统使用一种新的高质量二氧化硅(SiO2)工艺,为金属氧化物(MO)晶体管沉积一层电介质层界面,这种新工艺将氢杂质降到最低程度,以提高晶体管的长期稳定性并优化屏幕性能。通过保持稳定性能并做好微粒控制提高良率,AKT-55KS PECVD设备使快速启动优质金属氧化物显示面板制造成为可能。