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Aera4™ 掩膜检测

应用材料公司的 Aera4 掩膜检测系统是采用 193nm 工作波长的第四代检测工具,它以独特的方式,将真实空间成像技术与前沿的高分辨率成像技术相结合。

Aera4 系统配备了新的光刻级镜头,在标准的高分辨率应用和空间检测中具有更出色的信噪比,因而成为 1x nm 技术节点以及早期生产中的 EUV 掩膜检测的首选工具。该系统的掩膜检测灵敏度极高,可满足双重和四重图形化光刻技术的要求,同时保持极低的误报率。

Aera4 设计用于模拟光刻扫描器,与其他高分辨率的掩膜检测系统相比,在检测先进掩膜(包括采用反向光刻等激进光学邻近效应修正的掩膜)时具有更高的首次检测成功率。此外,该系统本身能够自动将缺陷归类为转印缺陷或非转印缺陷,使掩膜制造商能够将 ArF 技术扩展用于下一代节点。

在晶圆制造厂,Aera4 系统可将掩膜检测从早期的雾状缺陷检测扩展到完整的 193nm 曝光退化监测。此外,IntenCD™ 技术可在检测的同时对整个掩膜进行关键尺寸均匀性映射。通过这些功能,系统能够延长掩膜寿命,降低与掩膜有关的成本。