CD-SEM計測装置VeritySEM^® 10

CD-SEM（測長走査型電子顕微鏡）は、半導体デバイスのパターン計測においてサブナノメートルの精度できわめて正確に計測できるため、しばしば「ファブの定規」と称されます。CD-SEMは、リソグラフィスキャナでマスクからフォトレジストに転写されたパターン上のラインやスペース等の微細寸法を計測する際に使用されます。この計測値に基づき継続的にリソグラフィとプロセスをキャリブレーションすることで、確実に補正されたパターンがウェーハにエッチングされます。EUV、特に高NA EUVの採用によりフォトレジストはさらに薄くなり、デバイスフィーチャーの微細寸法の計測はますます困難になっています。フォトレジストをより薄くする必要があるのは、マスクパターンの現像に要するフォトンをDUV（遠紫外線）リソグラフィの10分の1に押さえなければならないからです。さらに、レジストが薄いほど、EUVで形成された高密度ラインの倒壊が防ぎやすくなります。高NA EUVの採用によりフォトレジストはさらに薄くなり、高NA EUVスキャナの焦点深度のロスを補います。

アプライド マテリアルズのVeritySEM® 10 CD-SEMは、EUVおよび高NA EUVリソグラフィでパターニングされた微細なフィーチャー寸法を測るよう特別に設計されています。この装置は、業界をリードするサブナノメートルの電子ビーム解像度を使用することにより、ウェーハ全体で13〜36か所の正確なCD測定値をすばやくキャプチャします。解像度とスキャン速度の向上により、EUVスキャナのキャリブレーションが高速化され、お客さまのプロセスレシピ開発の加速と量産歩留まりの最大化を支援し、高額なリソグラフィモジュール投資に対する利益率を高めます。低ランディングエネルギーを使用することにより、EUVおよび高NA EUVの細く繊細なフォトレジストの影響を最小限に抑え、パターンの忠実性を維持しながら厳しい計測生産要求に応えます。