單晶圓電鍍系統專用的 Raider 平台可為範圍廣泛的製程提供大量生產能力，包括在晶圓級封裝、鑲嵌連結製程及 TSV 應用。為符合每個區隔市場的特定要求，Raider 能針對特定應用製程進行配置，以提供現有的最佳效能。
RAIDER ECD 系統佔地面積小、產量高，適用於 150 奈米-300 奈米單晶圓、自動化、多反應室電化學沉積。
300 毫米晶圓電鍍採用增強型反應室反應器，能機動性地改變電流密度，達到絕佳的沉積均勻度。多區陽極陣列便於在超薄和電阻性晶種層上電鍍。...
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