skip to main content

半導體

View all Products

建立／沉積

    成形／去除

      改性

        分析

          連接

            圖案化

              選擇性製程

                技術

                廠房環境解決方案

                  軟體

                  技術用語

                  Producer GT CVD Platform Angle View

                  Producer® Precision® APF® PECVD

                  The Applied Producer Precision APF PECVD system produces a family of strippable amorphous carbon hard mask films for critical...

                  View product detail

                  Endura

                  Endura® CIRRUS™ HT Co PVD

                  隨著積體電路及其組件持續向下微縮，組件之間的金屬導線和接觸點的尺寸也在縮小。這種趨勢造成這些連接組件的電阻越來越高。為生產更精小、更快速的電子元件，連接組件必須維持最小電阻，元件才可能進一步微縮。

                  這種較高電阻所造成的慢化效應通常稱作阻容延遲 (即 RC 延遲...

                  View product detail

                  ALTA 4700DP

                  ALTA® 4700DP 光罩寫入機

                  ALTA 4700DP 系統具備符合成本效益圖案化的二元光罩和相位移光罩 (PSM)，可支援快速週轉時間並縮短設計週期。高 NA 光學和 DUV 雷射能以高解析度和嚴密的線寬控制，產生寫入光罩圖案所需的清晰、聚焦的光束。改善的載物台控制能提高圖案放置的準確性，...

                  View product detail

                  Axcela PVD

                  AXCELA™ 物理氣相沈積

                  在過去的十年中，同級最佳的 Applied Axcela PVD 系統，已經證明了製程的優越性和穩定性，其不均勻度小於 2％ 1σ。專為將持有成本降到最低和達到對厚 8µm 薄膜的易維護性而設計，每個濺鍍反應室的標準功能是可以沉積三種不同的材料，...

                  View product detail

                  Aera™ 4 光罩檢測

                  應用材料公司的 Aera 4 光罩檢測系統是以 193 奈米為主的第四代檢測工具；此工具獨特地結合了真實空間影像技術與尖端的高解析度影像技術。

                  Aera 4 系統配備了新的微影級鏡頭，在標準的高解析度應用和空間檢測中展現更佳訊噪比，因而成為 1x...

                  View product detail

                  Aeris®-G 電漿式廢氣處理系統

                  應用材料公司的 Aeris™-G 系統是採用泵前電漿式廢氣處理解決方案，相比泵後廢氣處理裝置，此方案所處理的實際製程氣體量更少且濃度更高，因此使用的能量更少。在廢氣處理過程中，由於 Aeris-G 反應室中較低的氮容量，加上電漿分解，最多可將氮氧化物 (NOx)...

                  View product detail

                  Aeris-S

                  Aeris®-S

                  Designed to treat the “dirtiest” applications, the Aeris-S operates by converting problematic materials into compounds that can be...

                  View product detail

                  Aeris-Si

                  Aeris®-Si

                  Aeris-Si 是下層前級管道清潔的整合解決方案，可用來管理二氧化矽負載並延長泵浦的使用壽命。該解決方案能達到高流量正矽酸四乙酯 (TEOS) 製程，實現最高沉積速率和產能；同時，泵浦的使用壽命可從 1 個月延長至 12 個月甚至更久，不到 1 年即可收回投資。...

                  View product detail

                  Applied MDLx™ Ginestra® Simulation Software

                  Ginestra® is a software product designed to simulate the operation and electrical characteristics of modern logic (e.g., FinFET, FeFET)...

                  View product detail

                  Applied Producer<sup>®</sup> XP Precision® Draco™ CVD

                  Applied Producer XP Precision™ Draco™ CVD

                  當今的全球數位化轉型推動了對低成本、高密度動態隨機存取記憶體 (DRAM) 晶片的需求，尤其是數據中心伺服器。然而，物理設計的限制侷限了 DRAM 的微縮，無法跟上 AI、5G、物聯網和其他數據密集型計算應用系統不斷增長的記憶體需求。

                  Applied...

                  View product detail

                  Applied® Sigmameltec® CTS Mask Coat Series

                  高品質光阻鍍膜是達到世界一流光罩 CD 均勻度的第一步。在奈米尺度上，許多細微因素變得非常重要，其中包括反應室空氣的純度、溫度和濕度，光罩表面的預處理、光阻分配和旋轉塗佈特性，以及塗抹後烘烤 (post apply bake) 輪廓的控制。

                  ...

                  View product detail

                  Applied® Sigmameltec® MRC Mask Clean Series

                  193i 和 EUV 微影所用光罩採用敏感光罩材料和環境，因此促成這些光罩採用的清潔方式。光罩清潔製程已經從腐蝕性化學處理方法發展到更溫和的配方與高頻超聲波相結合的技術，以去除更小的微粒並實現更光潔的光罩表面。

                  Sigmameltec MRC...

                  View product detail

                  Applied® Sigmameltec® SFB Mask Bake Series

                  使用化學放大型光阻進行光罩製造時，必須對曝光後烘烤 (PEB) 步驟進行嚴格控制，這樣便可完成由圖案曝光引發的化學反應。烘烤溫度和時間也會影響最終的圖案尺寸，因此烘烤條件必須保持均勻並可重複，以此確保曝光設備的 CD 均勻性被準確地轉移到光罩上。...

                  View product detail

                  Applied® Sigmameltec® SFD Mask Develop Series

                  對於透過鍍膜、曝露和烘烤這些受到高度控制製程的光罩，將已曝光的光阻圖案進行精確顯影，是保留光罩原有的 CD 均勻度不可缺少的一環。這項製程需要在光罩表面同時並均勻地分配顯影劑。因此採用足夠的流速可以避免顯影劑耗盡，同時也可以在光罩線寬尺寸的全部範圍內實現最佳 CD 線性。...

                  View product detail

                  Centris® Sym3® Etch

                  隨著半導體持續進行微縮，對晶片製造的精密度和均勻度要求也越來越嚴格，因而推動了過去十年來矽蝕刻反應室的首次全面重新設計。 應用材料因此發展了 Centris Sym3 系統，能在重要的蝕刻應用中以無比強大的晶片內部線寬控制能力，提供世界最佳的跨晶圓均勻度，以達到 1x/...

                  ,

                  為確保晶片內蝕刻精密度的提升擴展到整個晶圓上，Centris Sym3 系統針對功率、氣體輸送和必要的熱特性等方面，對 True Symmetry™ 進行了全面的重新設計。此外，Pulsync™ 的改進提高了同步電漿脈衝的有效性，並使圖案負載效應減到最小。...

                  View product detail

                  Centris® Sym3® Y Etch

                  半導體微縮技術持續穩定地發展到個位數節點，為晶片製造的精密度和均勻性設下了日益嚴苛的要求。在早期的節點，由於線寬尺寸較大，所允許的蝕刻深度、線寬/間距寬度或輪廓角度的差異範圍更大，而不會影響到元件效能。同樣，在線寬表面偶爾殘留的微粒也不會損害元件可靠性。然而，...

                  View product detail

                  Centura® DPN HD 高純度解耦電漿氮化閘極堆疊

                  在 DPN HD (高純度解耦電漿氮化) 氮化過程中，用低能量脈衝式電漿將氮注入氧化矽介電質，在閘極堆疊的氮氧化物/多晶矽介面產生所需要的高氮濃度，並維持在矽/氮氧化物介面的低氮濃度，以維持高通道遷移率。新的化學材料以及直接高溫晶圓加熱，可以達到 3X 及 2X...

                  View product detail

                  Centura® DXZ CVD

                  碳化矽（SiC）是用於高速應用的新興材料之一。然而，其透明性使得晶片處理特別苛刻。DXZ CVD系統配備了強化功能，可以可靠而謹慎地處理碳化矽（ SiC）晶圓，從承載器晶圓定位到明確的晶圓定向再到晶圓擺放。

                  Centura DXZ系統設計顯著改善了成本（...

                  View product detail

                  Epi 200mm

                  Centura® EPI 200mm

                  應用材料公司的 Centura Epi 系統是經過全球生產驗證的 ~900 200mm 反應室、單晶圓、多反應室磊晶矽沉積系統。每個採用輻射加熱的製程反應室均可以提供精確和可重複的沉積條件控制，並可以實現完全無滑移的薄膜、出色的薄膜厚度和電阻率均勻性，以及低缺陷水平。...

                  View product detail

                  Close up of Applied Materials Metal Etch DPS Plus

                  Centura® Etch

                  Centura 的單晶圓、多反應室架構支持多達四個製程反應室的整合、連續晶圓加工。應用材料公司的 Centura DPS Plus 是公認的鋁蝕刻產業標竿。Applied Centura DPS-DTM是用於SiC的先進深反應式離子蝕刻系統，可在實現高產量的同時，...

                  View product detail

                  Centura Prime RP Epi

                  Centura® Prime® Epi

                  約二十年來，應用材料從領先業界的 Centura RP Epi 系統累積了磊晶方面的專業知識；Centura Prime Epi 保留了該系統的核心，同時改進了系統前身的設備可配置性和製程能力。全新單反應室配置可在減少 30% 佔地面積下提高設備正常運轉率和產能...

                  View product detail

                  Centura Silvia Etch is designed for the deep silicon etch required to create the vertical connections between chips or wafers

                  Centura® Silvia® Etch

                  TSV 為產品設計師提供了全新且極節省空間的自由度；這項技術不僅能整合不同節點的電路元件，而且能使功能與性能遠超過打線接合和覆晶 3D 配置所能達成的功能與性能。

                  現在的元件製造商運用著 不同的配置來整合晶片，以便達到最佳的功能體積比。 ...

                  View product detail

                  Centura® Tetra™ EUV 先進光罩蝕刻系統

                  極紫外線 (EUV) 光罩是以新式微影系統，透過高能量、短波長的光源，將電路圖案轉印到晶圓。EUV 光源波長比目前深紫外線微影製程的光源波長短少約 15 倍，因此能持續將線寬尺寸縮小。

                  EUV 光罩與傳統的光罩截然不同，後者是有選擇性地傳輸...

                  View product detail

                  Centura® Tetra™ Z 光罩蝕刻系統

                  The Applied Centura Tetra Z 光罩蝕刻系統提供最先進的性能，可滿足 10nm 及以下製程邏輯和記憶體元件的光學微影光罩蝕刻所需。這套全新系統提升了領先業界的 Tetra 平台功能，採用先進的解析度增強技術，在利用四次圖案化來延伸浸潤式微影之下，...

                  View product detail