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Producer® CVD

為滿足「超越摩爾定律」如 MEMS和功率元件等市場,先進的150mm和200mm CVD技術的需求日益增加。更厚的薄膜(≥20µm)、更低溫的製程(180°-350°C)、更高均勻性薄膜以及諸如低溫PECVD矽鍺(SiGe)和非晶矽(a-Si)等新材料都是CVD技術的一環。

Applied Producer平台全球出貨數千套系統,是業界最具成本效益的晶圓製程產品。其創新的雙反應室結構可同時處理多達六個晶圓,達到優越的生產力。該平台配備了強化功能,能可靠而謹慎地處理碳化矽( SiC)晶圓,從承載器晶圓定位到明確的晶圓定向再到晶圓擺放。該系統可提供高達110wph的原矽酸四乙酯 (TEOS) 和碳化矽產量 (3,000Å PE TEOS和電漿矽烷) 和高達65wph的未摻雜的矽玻璃 (USG) 產量 (2000Å SACVD USG)。借助陶瓷加熱器、反應室組件和用於反應室清潔的遠端電漿源,應用材料公司的 Producer 使 CVD 薄膜的缺陷率達到最低。

Producer 系統支持傳統的 PECVD(TEOS 和基於矽烷的氧化物和氮化物)和次大氣壓 CVD 薄膜沉積,以及一些先進的製程,包括低 k應變工程、微影薄膜、熱薄膜、高溫 PECVD 應用、矽鍺和非晶矽。平台具有擴展性,使客戶能夠將 Producer 機台組件運用在多種類型元件和製程節點。

Producer 系統支持傳統的 PECVD(TEOS 和基於矽烷的氧化物和氮化物)和次大氣壓 CVD 薄膜沉積,以及一些先進的製程,包括低 k、應變工程、光刻薄膜、熱薄膜、高溫 PECVD 應用、矽鍺和非晶矽。

借助陶瓷加熱器、反應室組件和用於反應室清潔的遠程電漿源,應用材料公司的 Producer 使 CVD 薄膜的缺陷率達到最低。平台具有可擴展性,使客戶能夠將 Producer 工具運用在多種類型元件和製程節點。