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AKT® NEW ARISTO™ FULL DYNAMIC PVD 设备

AKT的立式溅射系统NEW ARISTO具备业界领先的产能并达到卓越的膜层均匀性。自动化的装卸料能力加上公司获得专利的输送系统,可显著缩短处理周期。先进的阴极旋转技术使NEW ARISTO成为经过市场检验的创新量产解决方案,其目标靶材的利用率远高于常规平面靶材,且优异的镀膜质量和微粒控制能力进一步提高良率。简洁的模块门概念最高程度实现灵活的流程控制,让投资更有保障。随着几十年来大尺寸经济切割的发展,NEW ARISTO已成为显示面板行业大尺寸彩色滤光片量产设备的基准与标杆。

NEW ARISTO平台适用于所有世代线包括最大的G11世代线的大尺寸电视面板量产产线。

可根据客户的需求在制程中实现单层镀膜如氧化铟锡(ITO)、氧化铟镓锌(IGZO)以及多层光学氧化层。

此外,除NEW ARISTO VR系统概念之外,NEW ARISTO TWIN系统的并行架构允许单个系统沉积所有的PVD膜层。该系统的产出比其他竞争企业设备高出多达40%。单独真空轨道概念与经实践验证的镀膜腔和基板输送机制相结合,确保更长久的正常运行时间。当一侧真空轨道进行维护的同时,另一侧真空轨道仍在正常运行生产。