最常见的半导体层用非晶硅(a-Si)制造。20多年来,非晶硅薄膜晶体管液晶显示面板(TFT-LCD)一直是制造有源矩阵的主导技术。非晶硅是一种供应充足的低成本材料。
AKT-PECVD设备为非硅晶(a-Si)和金属氧化物(MOx)背板技术提供工艺，可使用的薄膜包括掺杂及未掺杂非晶硅(a-Si)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiON)、氮化硅(SiN)，并且实现一次多层沉积镀膜。
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AKT EBT TFT阵列测试设备以最小的机械运动，实现高可靠性、较短的计划停机时间和低运行成本。电子束阵列测试设备的特征在于，通过几个平行的电子束迅速地进行大面积定位检测，从而实现快速测试。终极的电子束微小尺寸与精确定位使超高分辨率测试成为可能，...
